X射線熒光光譜儀（XRF）的樣品要求
1.粉末樣品需提供3-5g，樣品要200目以下，完全烘干； 2.輕合金（鋁鎂合金）厚度不低于5mm，其他合金不小于1mm，其他材料厚度需滿足3-5mm； 3.檢測單元表面盡量平整，且長寬不超過45mm 4.粉末樣品可能會使用硼酸壓片，如有特殊要求，請提前說明......閱讀全文
X射線熒光光譜儀（XRF）的樣品要求
1.粉末樣品需提供3-5g，樣品要200目以下，完全烘干； 2.輕合金（鋁鎂合金）厚度不低于5mm，其他合金不小于1mm，其他材料厚度需滿足3-5mm； 3.檢測單元表面盡量平整，且長寬不超過45mm 4.粉末樣品可能會使用硼酸壓片，如有特殊要求，請提前說明
X射線熒光光譜儀（XRF）的樣品要求
1.粉末樣品需提供3-5g，樣品要200目以下，完全烘干；2.輕合金（鋁鎂合金）厚度不低于5mm，其他合金不小于1mm，其他材料厚度需滿足3-5mm；3.檢測單元表面盡量平整，且長寬不超過45mm4.粉末樣品可能會使用硼酸壓片，如有特殊要求，需提前說明。
X射線熒光光譜法XRF樣品的要求
1.粉末樣品需提供3-5g，樣品要200目以下，完全烘干； 2.輕合金（鋁鎂合金）厚度不低于5mm，其他合金不小于1mm，其他材料厚度需滿足3-5mm； 3.檢測單元表面盡量平整，且尺寸為4-4.5cm。
X射線熒光光譜儀(XRF)
原理：用一束X射線或低能光線照射樣品材料，致使樣品發射二次特征X射線，也叫X射線熒光。這些X射線熒光的能量或波長是特征的，樣品中元素的濃度直接決定射線的強度。從而根據特征能量線鑒別元素的種類，根據譜線強度來進行定量分析。XRF有波長散射型(WDXRF)和能量散射型(EDXRF)兩種，前者測量精密度好
X射線熒光光譜儀（XRF）
自1895年倫琴發現X射線以來，X射線及相關技術的研究和應用取得了豐碩成果。其中，1910年特征X射線光譜的發現，為X射線光譜學的建立奠定了基礎；20世紀50年代商用X射線發射與熒光光譜儀的問世，使得X射線光譜學技術進入了實用階段；60年代能量色散型X射線光譜儀的出現，促進了X射線光譜學儀器的迅
波長色散X射線熒光光譜儀的樣品要求
?波長色散X射線熒光光譜儀是利用原級X射線或其他光子源激發待測物質中的原子，使之產生熒光(次級X射線)，從而進行物質成分分析的儀器。?? X射線熒光光譜儀又稱XRF光譜儀，有色散型和非色散型兩種。?? 特點及應用：?? 波長色散X射線熒光光譜儀優點多，不破壞樣品，分析速度快，適用于測定原子序數4以上
X射線熒光（XRF）：理解特征X射線
什么是XRF？ X射線熒光定義：由高能X射線或伽馬射線轟擊激發材料所發出次級（或熒光）X射線。這種現象廣泛應用于元素分析。 XRF如何工作？ 當高能光子（X射線或伽馬射線）被原子吸收，內層電子被激發出來，變成“光電子”，形成空穴，原子處于激發態。外層電子向內層躍遷，發射出能量等于兩級能
X射線熒光光譜儀（XRF）的應用
可以進行固體、粉末、薄膜、液體樣品及不規則樣品的無標樣元素的定性定量分析。主要用于金屬、無機非金屬等材料中化學元素的成分分析，X射線熒光光譜法XRF測試的元素范圍包含有效的元素測量范圍為1號元素 （Na）到92號元素（U）
X射線熒光光譜儀（XRF）基本結構
現代X射線熒光光譜分析儀由以下幾部分組成;X射線發生器(X射線管、高壓電源及穩定穩流裝置)、分光檢測系統（分析晶體、準直器與檢測器)、記數記錄系統（脈沖輻射分析器、定標計、計時器、積分器、記錄器)。
X射線熒光光譜儀（XRF）基本結構
現代X射線熒光光譜分析儀由以下幾部分組成；X射線發生器(X射線管、高壓電源及穩定穩流裝置)、分光檢測系統（分析晶體、準直器與檢測器)、記數記錄系統（脈沖輻射分析器、定標計、計時器、積分器、記錄器)。
X射線熒光光譜儀(XRF)－簡介
X-射線熒光光譜儀(XRF)是一種較新型可以對多元素進行快速同時測定的儀器。在X射線激發下，被測元素原子的內層電子發生能級躍遷而發出次級X射線(即X-熒光)。波長和能量是從不同的角度來觀察描述X射線所采用的兩個物理量。波長色散型X射線熒光光譜儀(WD-XRF)，是用晶體分光而后由探測器接收經過衍射的
XRF(X射線熒光光譜儀)選擇寶典
能測RoHS指令的儀器很多，而且這些儀器無論是國產的還是進口的，都是屬貴重儀器。如何選擇不光是費用問題，更主要的使用問題。 ?????對六種有害物質總量的定量檢測： 一、?按日本商會歐盟分部的“依照RoHS指令的檢測方法”。 ???該方法建議對來料先便攜式（手持式）ROHS檢測儀檢測，能通過的就算合
簡述X射線熒光光譜儀（XRF）的應用
可以進行固體、粉末、薄膜、液體樣品及不規則樣品的無標樣元素的定性定量分析。主要用于金屬、無機非金屬等材料中化學元素的成分分析，X射線熒光光譜法XRF測試的元素范圍包含有效的元素測量范圍為1號元素 （Na）到92號元素（U）
X射線熒光光譜儀制樣要求
X射線熒光光譜儀制樣要求：? 樣品的尺寸(直徑x高)50x 40mm，重量400g。? 1、定量分析? 定量分析是對樣品中元素進行準確定量測定。定量分析需要一組標準樣品做參考。常規定量分析一般需要5個以上的標準樣品才能建立較可靠的工作曲線。? 常規X射線熒光光譜定量分析對標準樣品的基本要求：
X射線熒光光譜儀測試時對樣品是否有要求
材質必須均勻。你的待測元素不均勻的話，多的地方和少的地方差別會較大。因為XRF光譜儀入射光線一般較窄，直徑1-5微米，也就是說照射到樣品的區域會很小，所以不均勻樣品檢測會不準確，當然主要也是看不均勻程度。你的交錯規律排列指的什么?如果是一層高分子，一層無機物，在一層高分子一層無機物，并且每層的厚度一
X射線熒光光譜儀測試時對樣品是否有要求
材質必須均勻。你的待測元素不均勻的話，多的地方和少的地方差別會較大。因為XRF光譜儀入射光線一般較窄，直徑1-5微米，也就是說照射到樣品的區域會很小，所以不均勻樣品檢測會不準確，當然主要也是看不均勻程度。你的交錯規律排列指的什么？如果是一層高分子，一層無機物，在一層高分子一層無機物，并且每層的厚度一
X射線熒光光譜儀測試時對樣品是否有要求
材質必須均勻。你的待測元素不均勻的話，多的地方和少的地方差別會較大。因為XRF光譜儀入射光線一般較窄，直徑1-5微米，也就是說照射到樣品的區域會很小，所以不均勻樣品檢測會不準確，當然主要也是看不均勻程度。你的交錯規律排列指的什么？如果是一層高分子，一層無機物，在一層高分子一層無機物，并且每層的厚度一
X射線熒光光譜儀（XRF）的基本分類
作為一種比較分析技術，在一定的條件下，利用初級X射線光子或其他微觀粒子激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線）而進行物質成分分析的儀器。 按激發、色散和探測方法的不同，分為： X射線光譜法（波長色散） X射線能譜法（能量色散）
XRFX射線熒光光譜儀的優點介紹
X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。 受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。 探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。 然后，儀器軟件將探測系統所收集到的信息轉換成樣品中各種
X射線熒光光譜儀（XRF）基本原理
X射線熒光光譜儀簡稱：XRF，適用于簡單的元素識別和定量以及更加復雜的分析，X射線熒光光譜分析是確定物質中微量元素的種類和含量的一種方法。 熒光，顧名思義就是在光的照射下發出的光，它是利用一定波長的X射線照射材料，元素處于激發狀態，從而激發出光子，形成一種熒光射線，由于不同元素的激發態的能量大
X射線熒光光譜儀（XRF）基本原理
X射線熒光光譜儀簡稱：XRF，適用于簡單的元素識別和定量以及更加復雜的分析，X射線熒光光譜分析是確定物質中微量元素的種類和含量的一種方法。熒光，顧名思義就是在光的照射下發出的光，它是利用一定波長的X射線照射材料，元素處于激發狀態，從而激發出光子，形成一種熒光射線，由于不同元素的激發態的能量大小不一樣
微－X－射線熒光－(μXRF)技術詳解
微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術，它允許檢測非常小的樣品區域。與傳統的 XRF 儀器一樣，微 X 射線熒光通過使用直接 X 射線激發來誘導來自樣品的特性 X 射線熒光發射，以用于元素分析。與傳統 XRF 不同（其典型空間分辨率的直徑范圍從幾百微米到幾毫米），μXRF 使用 X 射線
X射線熒光光譜儀樣品室的故障分析
光譜室和樣品室的真空抽不到規定值，樣品室最常見的漏氣部位是樣品自轉裝置上的密封圈，樣品測量時通常以0.5轉/秒的速度自轉，儀器幾年運行下來，樣品自轉處的密封圈磨損，密封效果變差。
關于X－射線熒光光譜儀對環境的要求
我們必須注意的是 X 射線熒光光譜儀對周圍環境的要求較高，實驗室內要保證恒溫、恒濕（22 度左右、濕度60%以下），特別是在南方潮濕的天氣環境下，更要特別注意。儀器實驗室必須安裝空調設備，儀器的使用環境中，不能有酸霧存在，也就是說，XRF 儀器不要和化學實驗室在同一個房間內。因為 X 光管和探測
X射線熒光（XRF）儀的結構組成介紹
一臺典型的X射線熒光（XRF）儀器由激發源（X射線管）和探測系統構成。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。 然后，儀器
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
X熒光光譜儀XRF的概述
是用X-射線管發出的初級線束輻照樣品，激發各化學元素發出二次譜線。是用X射線直接照射樣品發射X熒光，分光晶體將熒光光束色散后，測定各種元素的特征X-射線波長和強度，從而測定各種元素的含量；而光譜儀是通過濾光片得到背景相對較低的X射線，照射樣品發射X熒光，X熒光借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分