MA6雙面光刻機共享應用
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）王喆垚（010-62772748,13552821122,z.wang@tsinghua.edu.cn）分類標簽：集成電路 半導體 微納加工 光刻技術指標：對準精度2微米知名用戶：北京大學、中科院電子所技術團隊：教授1人、副教授1人、工程師1人功能特色：本設備可進行雙面對準和曝光，雙面對準精度2微米，可對30um以下厚膠曝光。硅片尺寸為5英寸、4英寸、3英寸。另外可以進行SU-8等厚膠光刻。樣品要求：單片式；硅片尺寸：5英寸、4英寸、3英寸預約說......閱讀全文
MA6雙面光刻機共享
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278
MA6雙面光刻機共享應用
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278
單面/雙面掩模對準光刻機的相關知識
單面/雙面掩模對準光刻機支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶，
Karl－SussMA6雙面光刻機共享應用
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278
800萬！清華大學雙面對準光刻機采購項目公開招標公告
近日，清華大學發布雙面對準光刻機采購項目，詳情如下：項目編號：清設招第2022114號（0873-2201HW3L0236）項目名稱：清華大學企業信息雙面對準光刻機采購項目預算金額：800.0000000 萬元（人民幣）采購需求：1.本次招標共1包：包號名稱數量預算金額（人民幣萬元）是否接受進口產品
“雙面”墨魚騙情敵
海洋里有一種頭足類動物，在遇到強敵時會以“噴墨”作為逃生的手段，伺機離開。你知道是什么動物嗎？沒錯，這就是大名鼎鼎的墨魚。這是我們以前對于墨魚的認識。不久前，澳大利亞麥考瑞大學行為生態學家發現了一種神奇的墨魚。 這種生活在澳大利亞東海岸的墨魚中的雄性，它可以將自己身體的兩面分別變成截然不同的樣
光刻機原理
光刻機原理： 是利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。光刻是集成電路最重要的
光刻機原理
光刻機原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到晶圓上，最后形成芯片。就好像原本一個空空如也的大腦，通過光刻技術把指令放進去，那這個大腦才可以運作，而電路圖和其他電子元件就是芯片設計人員設計的指令。光刻機就是把芯片制作所
“雙面偶像”幽門螺桿菌
2005年，瑞典皇家科學院諾貝爾獎委員會宣布將諾貝爾生理學或醫學獎授予澳大利亞科學家巴里·馬歇爾和羅賓·沃倫，以表彰“他們發現了幽門螺桿菌以及該細菌對消化性潰瘍病的致病機理”。 馬歇爾認為，幽門螺桿菌是導致胃炎的“元兇”，這一提法刷新了當時業內認為胃內是徹底無菌環境的主流觀點。基于此，業內通過
學術機構緣何給出“雙面結論”
近日媒體爆料一起“高科技騙局”，觸目驚心。事件圍繞“硼穩定同位素分離富集”技術，由高校科研團隊提供技術，企業提供資金，政府參與，共同促進成果產業化。結果數年之后投資者逐漸發現所謂技術并不成熟，數億投資等于打了水漂。雖然目前該事件僅有當事人一方素材，下定論尚早，但諸多線索已經表明這是一起涉嫌學術不
佳能光刻機共享
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
光刻機是什么
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電
光刻機是什么
光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補
光刻機工作原理
1、測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。6
光刻機是什么
1、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.2、一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。3、Photolithogra
光刻機的概述
光刻機（Mask Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大
光刻機的分類
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動 A 手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了； B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧； C 自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循
光刻機的種類
a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。 1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面； 2.硬接
什么是光刻機
光刻機（Mask?Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大，全
光刻機怎么制作
第一步：制作光刻掩膜版（Mask Reticle）芯片設計師將CPU的功能、結構設計圖繪制完畢之后，就可將這張包含了CPU功能模塊、電路系統等物理結構的“地圖”繪制在“印刷母板”上，供批量生產了。這一步驟就是制作光刻掩膜版。光刻掩膜版：（又稱光罩，簡稱掩膜版），是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖
光刻機工作原理
1、測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。6
Cell子刊揭示癌癥雙面蛋白
在《Molecular Cell》雜志上的一項新研究中，來自Salk研究所的研究人員報告稱，一種被視作是在早期癌癥形成過程中充當腫瘤抑制因子的蛋白——轉化生長因子-β(TGF-β)，在細胞一旦進入到癌前狀態后實際上可對癌癥起促進作用。 這一研究發現讓調查者們感到驚喜，它增大了一種誘人的
Cell子刊：癌癥的“雙面蛋白”
一些細胞蛋白具有多種，有時甚至是相反的功能。來自冷泉港實驗室的drian Krainer教授和同事們在新研究中發現，致癌蛋白SRSF1也可以通過穩定p53，觸動細胞停止生長，阻止癌性增殖，是一種強有力的抑癌蛋白。 SRSF1是一種具有多重功能的蛋白質。人們最初描述它是RNA剪接過程的必
Science：細胞應激信號的雙面性
細胞承受太多應激壓力就會死亡，但是如果這種應激壓力不是特別大，細胞就能維持生存。一項最新的研究解釋了什么樣的應激是臨界線，細胞又是如何確定這種臨界線的。 這一研究成果公布在7月4日的Science雜志上。 在發生自然災害之后，工作人員會迅速組織起來清理殘骸，建立臨時避難所為需要的人們提供食物
“雙面”膜用鹽水產生電力
想象一下被塞進一輛擁擠的火車，然后發現月臺上還有一輛沒有那么擁擠的火車。你可能想盡快過去。遵循這種平衡做法（被稱為滲透性）的粒子自發地從高濃度區域向低濃度區域移動。如今，科學家利用這種傾向性創建了產生動力的膜——其能從鹽水中獲取電流。 當由帶正負電荷的粒子束構成的離子鹽在水中溶解時，粒子束會分
雙面熱封機RFY3
雙面熱封機RFY-3 價格：優惠促銷，歡迎來電咨詢！ 雙面熱封機RFY-3 產品功能 本品采用熱壓封口法測定塑料薄膜基材、軟包裝復合膜、涂布紙及其它熱封復合膜的熱封溫度、熱封時間、熱封壓力等參數，為用戶提供準確的熱封試驗指標。控制系統全數字化，關鍵部件采用國際知名品牌產品，自動化程
幽門螺桿菌的“雙面人生”
2005年，瑞典皇家科學院諾貝爾獎委員會宣布將諾貝爾生理學或醫學獎授予澳大利亞科學家巴里·馬歇爾和羅賓·沃倫，以表彰“他們發現了幽門螺桿菌以及該細菌對消化性潰瘍病的致病機理”。 馬歇爾認為，幽門螺桿菌是導致胃炎的“元兇”，這一提法刷新了當時業內認為胃內是徹底無菌環境的主流觀點。基于此，業內通過
佳能光刻機共享應用
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
光刻機原理是什么
光刻機原理是什么，為何在我國如此重要？一臺EUV光刻機售價一億美金以上，比很多戰斗機的售價都要貴。先進的光刻機必須要用到世界上最先進的零件和技術，并且高度依賴供應鏈全球化，荷蘭的ASML用了美國提供的世界上最好的極紫外光源，德國蔡司世界上最好的鏡片和光學系統技術，還有瑞典提供的精密軸承。另外，為了給
投影式光刻機簡介
投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度