什么是全反射X射線熒光光譜儀技術？
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系統，對于三級反射系統，如圖1所示，光源出射的原級X射線經過前兩級反射體的濾波和高能切割，形成單色性極佳的X射線，再入射到涂有樣品的第三級反射體上激發出樣品的特征X射線，最后被探測器接收并由檢測系統進行記錄處理。 創想X射線熒光光譜儀 為了獲得全反射，原級X射線的入射角必須小于臨界角(中)，φ。的定義為:入射X射線剛好發生反射現象時的人射角度。忽略在吸收限處的共振和量子效應，由經典色散理論可推出臨界角公式1/2中: = (5.4 x 10"Zp\3/A)(2)式中：Z為原子序數；p為密度,g/cm2 ；λ為人射X射線的波長......閱讀全文
全反射的定義
光由相對光密介質射向相對光疏介質，且入射角大于等于臨界角C，即可發生全反射。臨界角即使折射角等于90°時的入射角。根據折射定律，?。因為空氣的折射率n=1,所以由某介質向空氣入射則簡化為n=1/sinC.
全反射傅里葉變換紅外(ATRFTIR－)－光譜儀的衰減全反射特點
1) 不破壞樣品, 不需要象透射紅外光譜那樣要將樣品進行分離和制樣。對樣品的大小, 形狀沒有特殊要求, 屬于樣品表面無損測量。 2) 可測量含水和潮濕的樣品。 3) 檢測靈敏度高, 測量區域小, 檢測點可為數微米。 4) 能得到測量位置處物質分子的結構信息、某化合物或官能團空間分布的紅外光
衰減全反射光譜的原理
紅外光譜是分析化合物結構的重要手段。常規的透射法使用壓片或涂膜進行測量，對某些特殊樣品( 如難溶、難熔、難粉碎等的試樣) 的測試存在困難。為克服其不足，20世紀60年代初出現了衰減全反射(Attenuated Total Refraction,ATR) 紅外附件，但由于受當時色散型紅外光譜儀性能的限
全反射X射線熒光(TXRF)應用簡介
全反射X射線熒光(TXRF)具有優異的檢出限（低至ppt或pg），與其它具有類似元素檢出限的檢測手段相比，具有基體效應小、樣品需求量小、操作相對簡單、運行成本低等優勢。 TXRF一次可以對70多種元素進行同時分析，這是原子吸收ETAAS和FAAS方法難以完成的。與質譜儀中的ICP-MS和GDM
全反射熒光光譜儀基本介紹
全反射熒光光譜儀是一種用于環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2014年12月1日啟用。 技術指標 檢出限可以達到 ppb 和 ppm 級別，S2 PICOFOX 非常適用于痕量元素分析。在樣品數量較少、液體樣品含有高基質以及樣品種類經常變化的情況下，優勢十分明顯。 主要功能 便
X射線熒光光譜儀的全反射熒光
如果n1>n2，則介質1相對于介質2為光密介質，介質2相對于介質1為光疏介質。對于X射線，一般固體與空氣相比都是光疏介質。所以，如果介質1是空氣，那么α1>α2，即折射線會偏向界面。如果α1足夠小，并使α2=0，此時的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當α1
全反射X熒光光譜儀的特點介紹
1、單內標校正，有效簡化了定量分析，無基體影響； 2、對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析； 3、多元素實時分析，可進行痕量和超痕量分析； 4、不受樣品的類型和不同應用需求影響； 5、的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量小； 6、優良的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；
TXRF8全反射X射線熒光分析儀
產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了ED
TXRF8全反射X射線熒光分析儀
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EDXRF方法的優越
超快非線性光學技術：時域全反射和波導
麥克斯偉方程在時間和空間具有一定的對偶性(duality),比如空間上高斯光束的衍射與時間上高斯脈沖在具有負群速度色散的光纖中傳輸就具有這樣的關系。科學家們對光的空間傳輸性質已經進行了幾百年的研究,取得了豐碩成果。通過考察時空對偶性,借鑒光的空間傳輸現象,有利于理解甚至發現嶄新的由超短脈沖參與的超快
全反射X熒光光譜儀的基本介紹
全反射熒光光譜儀是一種用于環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2014年12月1日啟用。 1、技術指標 檢出限可以達到 ppb 和 ppm 級別，S2 PICOFOX 非常適用于痕量元素分析。在樣品數量較少、液體樣品含有高基質以及樣品種類經常變化的情況下，優勢十分明顯。 2、主要功
全反射X射線熒光分析儀原理及特點
全反射X熒光光譜儀原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是“傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以zui大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體
全反射X射線熒光光譜儀技術相關介紹
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系
?－正文－TXRF8全反射X射線熒光分析儀
產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了ED
全反射X熒光（TXRF）分析技術發展前景可觀
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EXRF方法的優越性，
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)組成結構
反射X射線熒光光譜儀(TXRF)主要包括：X射線源、光路系統、進樣系統、探測器、數據處理系統及其他附件，下文主要介紹前四部分。 一、X射線源：由高壓發生器及射線管組成。提供初級X射線，對樣品中待測元素進行激發得到X射線熒光，其強度正比于初級X射線的強度。通常，XRD或XRF發生器便可滿足TXR
全反射X熒光技術在痕量元素檢測中的應用
?TX2000全反射X熒光光譜儀 高沸點石油化工產品及其衍生物中痕量元素的檢測是一項挑戰性工作，目前檢測手段主要為AAS、ICP-OES、EDXRF等。 樣品測量結果與樣品前處理息息相關。前處理方法包括稀釋樣品，灰化法分解樣品，濕法分解樣品等。但是這些前處理手段都有其不足之處，如高溫易揮發元素損失
什么是全反射X射線熒光光譜儀技術？
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系統
表面層外全反射角X射線能譜微分析
電子探針微區分析(EPMA,XRMA)由于X射線激發深度較大而對薄層分析產生困難,無法準確確定分析結果是樣品表面的成分還是樣品體相的成分。本工作在通常的X射線微區分析設備上,采用外全反射角X射線能譜微分析方法,通過對硅襯底上不同膜厚的鋁膜和銅膜的測定,探索出一種區分膜成分和體相成分的新方法。結果表明
薄膜外全反射角X射線能譜分析研究
電子探針微區分析(EPMA，XRMA)由于X射線激發深度較大而對薄層分析產生困難，無法準確確定分析結果是樣品表面的成分還是樣品體相的成分。本工作首先從理論上探討了薄膜產生全反射的的條件，然后在通常的x射線微區分析設備上，采用外全反射角X射線能譜微分析方法，通過對硅襯底上不同膜厚的鋁膜和銅膜的測定，探
TXRF全反射X射線熒光光譜儀的相關介紹
TXRF全反射X射線熒光光譜儀快速多元素痕量分析可對固體、粉末、液體、懸浮物、過濾物、大氣飄塵、薄膜樣品等進行定性、定量分析，元素范圍13Al-92U。 需要樣品量少，液體及懸浮物樣品1-50微升，粉末樣品10微克以內。 便攜式全反射熒光儀，設備小巧，一體化結構設計，不需要任何輔助設備及氣體
傅里葉紅外光譜儀ATR衰減全反射法
ATR衰減全反射法常規的透射光譜可用壓片或液體池法進行測量，但是對于某些特殊樣品，難熔、難溶及難粉碎的試樣（如塑料聚合物、橡膠等），透射光譜存在制樣困難的問題。衰減全反射（Attenuated Total Refraction，ATR）紅外附件可以完美的解決這些問題。它具有制樣簡單、無破壞性、檢測靈
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)原理及結構簡述
X射線熒光(XRF)是當原級X射線照射樣品時，受激原子內層電子產生能級躍遷所發射的特征二次X射線。該二次X射線的能量及強度可被探測，與樣品內待測元素的含量相關，此為XRF光譜儀的理論依據。 根據分光系統的不同，XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種，二者結構示
全反射X射線熒光光譜儀的技術指標和功能
全反射X射線熒光光譜儀是一種用于材料科學領域的分析儀器，于2016年11月28日啟用。 一、技術指標 可分析元素范圍：Al~U（靶元素和與靶元素干擾嚴重的元素除外） 濃度范圍：10-9~100% 檢出限：Ni≤2pg 激發源：最大功率≥30W；最大激發電壓≥50kV，最大激發電流≥1mA 探
全反射XRF對武漢市大氣顆粒物有害元素濃度的分析
大氣顆粒污染物分析,特別是對人體健康危害最大、小于2.5μm的顆粒(PM2.5)的大氣顆粒污染物進行有效分析,并非一般非核分析技術能夠勝任,必須采用現代核分析技術,由于TXRF是一種快速多元素分析方法,可以進行ng量級的痕量分析,且分析樣品時所需樣品量很少,所以對于大氣飄塵來說,TXRF為一理想的分
理學推出全反射X射線熒光光譜儀－鎘元素檢測有優勢
近日，日本理學宣布推出新一代理學NANOHUNTER II臺式全反射X射線熒光（TXRF）光譜儀，液體或固體表面高靈敏度痕量元素分析達到ppb水平。全反射X射線熒光光譜通過一種途徑使X射線入射光束剛好擦過樣品，來實現低背景噪音、高靈敏度的超微量元素測量。NANOHUNTER II臺式全反射X射線
用于制造－X－射線熒光分析全反射鏡的高質量表面精磨工藝
01 導言 X 射線反射鏡是一種能反射和聚焦短波長 X 射線（束）的反射光學元件，廣泛應用于各種分析儀器中。為了有效表征 X 射線的光學和物理性質，各種反射鏡形態須達到平均粗糙度在亞納米級的高表面精度。便攜式 X 射線元素分析儀基于全反射 X 射線熒光 (TXRF) 分析技術構建，應用于需要超
全反射X射線熒光TXRF在血清樣品Cu－Zn－Se定量分析中的應用
X射線熒光光譜（XRF）技術是一項可用于確定各類材料成份構成的分析技術，已經成熟運用多年。其應用方向主要包括金屬合金、礦物、石化產品等等。而全反射X射線熒光作為X射線熒光中的后起之秀，因為制樣簡單且具有可與原子吸收光譜 (AAS), 電感耦合等離子體質譜 (ICP-MS) 比擬的低至PPb級別
光纖傳感器的原理及特征
1、光纖的構造 根柢選用石英玻璃，有紛歧樣摻雜，首要由三有些構成，如圖1所示。 基地——纖芯； 外層——包層； 護套——尼龍料。 光纖傳感器的原理_光纖傳感器的特征 2、光纖傳感器的原理及分類 光纖的傳達依據光的全反射。當光線以紛歧
光纖傳感器的原理及特征
1、光纖的構造 根柢選用石英玻璃，有紛歧樣摻雜，首要由三有些構成，如圖1所示。 基地——纖芯； 外層——包層； 護套——尼龍料。 光纖傳感器的原理_光纖傳感器的特征 2、光纖傳感器的原理及分類 光纖的傳達依據光的全反射。當光線以紛歧