全反射熒光光譜儀基本介紹
全反射熒光光譜儀是一種用于環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2014年12月1日啟用。 技術指標 檢出限可以達到 ppb 和 ppm 級別，S2 PICOFOX 非常適用于痕量元素分析。在樣品數量較少、液體樣品含有高基質以及樣品種類經常變化的情況下，優勢十分明顯。 主要功能 便捷式臺式光譜儀，用于應用全反射 X 射線熒光分析 (TXRF) 原理，對液體、懸浮液、固體和污染物進行定量和半定量多元素微量分析。......閱讀全文
全反射熒光光譜儀基本介紹
全反射熒光光譜儀是一種用于環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2014年12月1日啟用。 技術指標 檢出限可以達到 ppb 和 ppm 級別，S2 PICOFOX 非常適用于痕量元素分析。在樣品數量較少、液體樣品含有高基質以及樣品種類經常變化的情況下，優勢十分明顯。 主要功能 便
全反射X熒光光譜儀的基本介紹
全反射熒光光譜儀是一種用于環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2014年12月1日啟用。 1、技術指標 檢出限可以達到 ppb 和 ppm 級別，S2 PICOFOX 非常適用于痕量元素分析。在樣品數量較少、液體樣品含有高基質以及樣品種類經常變化的情況下，優勢十分明顯。 2、主要功
全反射X熒光光譜儀的特點介紹
1、單內標校正，有效簡化了定量分析，無基體影響； 2、對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析； 3、多元素實時分析，可進行痕量和超痕量分析； 4、不受樣品的類型和不同應用需求影響； 5、的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量小； 6、優良的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；
X射線熒光光譜儀的全反射熒光
如果n1>n2，則介質1相對于介質2為光密介質，介質2相對于介質1為光疏介質。對于X射線，一般固體與空氣相比都是光疏介質。所以，如果介質1是空氣，那么α1>α2，即折射線會偏向界面。如果α1足夠小，并使α2=0，此時的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當α1
全反射X射線熒光光譜儀技術相關介紹
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系
TXRF全反射X射線熒光光譜儀的相關介紹
TXRF全反射X射線熒光光譜儀快速多元素痕量分析可對固體、粉末、液體、懸浮物、過濾物、大氣飄塵、薄膜樣品等進行定性、定量分析，元素范圍13Al-92U。 需要樣品量少，液體及懸浮物樣品1-50微升，粉末樣品10微克以內。 便攜式全反射熒光儀，設備小巧，一體化結構設計，不需要任何輔助設備及氣體
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)組成結構
反射X射線熒光光譜儀(TXRF)主要包括：X射線源、光路系統、進樣系統、探測器、數據處理系統及其他附件，下文主要介紹前四部分。 一、X射線源：由高壓發生器及射線管組成。提供初級X射線，對樣品中待測元素進行激發得到X射線熒光，其強度正比于初級X射線的強度。通常，XRD或XRF發生器便可滿足TXR
什么是全反射X射線熒光光譜儀技術？
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系統
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)原理及結構簡述
X射線熒光(XRF)是當原級X射線照射樣品時，受激原子內層電子產生能級躍遷所發射的特征二次X射線。該二次X射線的能量及強度可被探測，與樣品內待測元素的含量相關，此為XRF光譜儀的理論依據。 根據分光系統的不同，XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種，二者結構示
全反射X射線熒光光譜儀的技術指標和功能
全反射X射線熒光光譜儀是一種用于材料科學領域的分析儀器，于2016年11月28日啟用。 一、技術指標 可分析元素范圍：Al~U（靶元素和與靶元素干擾嚴重的元素除外） 濃度范圍：10-9~100% 檢出限：Ni≤2pg 激發源：最大功率≥30W；最大激發電壓≥50kV，最大激發電流≥1mA 探
理學推出全反射X射線熒光光譜儀－鎘元素檢測有優勢
近日，日本理學宣布推出新一代理學NANOHUNTER II臺式全反射X射線熒光（TXRF）光譜儀，液體或固體表面高靈敏度痕量元素分析達到ppb水平。全反射X射線熒光光譜通過一種途徑使X射線入射光束剛好擦過樣品，來實現低背景噪音、高靈敏度的超微量元素測量。NANOHUNTER II臺式全反射X射線
全反射X射線熒光(TXRF)應用簡介
全反射X射線熒光(TXRF)具有優異的檢出限（低至ppt或pg），與其它具有類似元素檢出限的檢測手段相比，具有基體效應小、樣品需求量小、操作相對簡單、運行成本低等優勢。 TXRF一次可以對70多種元素進行同時分析，這是原子吸收ETAAS和FAAS方法難以完成的。與質譜儀中的ICP-MS和GDM
全反射傅里葉變換紅外(ATRFTIR－)－光譜儀的衰減全反射特點
1) 不破壞樣品, 不需要象透射紅外光譜那樣要將樣品進行分離和制樣。對樣品的大小, 形狀沒有特殊要求, 屬于樣品表面無損測量。 2) 可測量含水和潮濕的樣品。 3) 檢測靈敏度高, 測量區域小, 檢測點可為數微米。 4) 能得到測量位置處物質分子的結構信息、某化合物或官能團空間分布的紅外光
原子熒光光譜儀的基本介紹
利用原子熒光譜線的波長和強度進行物質的定性與定量分析的方法。原子蒸氣吸收特征波長的輻射之后，原子激發到高能級，激發態原子接著以輻射方式去活化，由高能級躍遷到較低能級的過程中所發射的光稱為原子熒光。當激發光源停止照射之后，發射熒光的過程隨即停止。 原子熒光可分為 3類：即共振熒光、非共振熒光和敏化熒光
關于熒光譜儀的基本信息介紹
熒光譜儀是一種用于化學、生物學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2012年12月1日啟用。 一、熒光譜儀的技術指標： 光學 所有波長全反射聚焦，微樣品精確成像 光源 無臭氧Xe燈 光譜計 平面光柵，Czery-Turner設計，所有波長保持聚 激發 200-950nm，最佳在紫外
原子熒光光譜儀的基本介紹
原子熒光光度計利用惰性氣體氬氣作載氣，將氣態氫化物和過量氫氣與載氣混合后，導入加熱的原子化裝置，氫氣和氬氣在特制火焰裝置中燃燒加熱，氫化物受熱以后迅速分解，被測元素離解為基態原子蒸氣，其基態原子的量比單純加熱砷、銻、鉍、錫、硒、碲、鉛、鍺等元素生成的基態原子高幾個數量級。
熒光光譜儀基本構成
熒光光譜儀由光源、單色器（濾光片或光柵）、狹縫、樣品室、信號檢測放大系統和信號讀出、記錄系統組成。光源用來激發樣品，單色器用來分離出所需要的單色光，信號檢測放大系統用來把熒光信號轉化為電信號，聯結于放大裝置上的讀出裝置用來顯示或記錄熒光信號。 ??下面介紹現用儀器（即法國Horiba?Jobin?Y
關于熒光光譜儀的基本信息介紹
熒光光譜儀又稱熒光分光光度計，是一種定性、定量分析的儀器。通過熒光光譜儀的檢測，可以獲得物質的激發光譜、發射光譜、量子產率、熒光強度、熒光壽命、斯托克斯位移、熒光偏振與去偏振特性，以及熒光的淬滅方面的信息。
實驗室光學儀器X射線熒光光譜儀的原理
現代X射線熒光光譜儀已發展成一個大家族,可分為同步輻射X射線熒光光譜、質子X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、波長色散X射線熒光光譜和能量色散X射線熒光光譜等。同步輻射X射線熒光光譜、質子X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜基本上是用Si(Li)半導體探測器進行檢測的。波長色散X射線熒光光譜還可進
TXRF8全反射X射線熒光分析儀
產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了ED
TXRF8全反射X射線熒光分析儀
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EDXRF方法的優越
全反射X射線熒光分析儀原理及特點
全反射X熒光光譜儀原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是“傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以zui大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體
關于原子熒光光譜儀的基本信息介紹
原子熒光光譜儀利用原子熒光譜線的波長和強度進行物質的定性與定量分析的方法。原子蒸氣吸收特征波長的輻射之后，原子激發到高能級，激發態原子接著以輻射方式去活化，由高能級躍遷到較低能級的過程中所發射的光稱為原子熒光。當激發光源停止照射之后，發射熒光的過程隨即停止。 原子熒光可分為 3類：即共振熒光、
X射線熒光光譜儀基本參數法介紹
針對經驗系數法對標準樣品的嚴重依賴和適用性窄的問題，基本參數法（FP）越來越受到重視。 基本參數法是對X射線的產生、濾波、X射線與物質的作用、探測器的各種效應，根據已經掌握的數據庫和物理理論進行計算，將計算譜與實測的譜，進行對比，通過迭代過程不斷逼近真實含量。以迭代的收斂的結果，作為定量結果。
?－正文－TXRF8全反射X射線熒光分析儀
產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了ED
全反射X熒光技術在痕量元素檢測中的應用
?TX2000全反射X熒光光譜儀 高沸點石油化工產品及其衍生物中痕量元素的檢測是一項挑戰性工作，目前檢測手段主要為AAS、ICP-OES、EDXRF等。 樣品測量結果與樣品前處理息息相關。前處理方法包括稀釋樣品，灰化法分解樣品，濕法分解樣品等。但是這些前處理手段都有其不足之處，如高溫易揮發元素損失
全反射X熒光（TXRF）分析技術發展前景可觀
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EXRF方法的優越性，
傅里葉紅外光譜儀ATR衰減全反射法
ATR衰減全反射法常規的透射光譜可用壓片或液體池法進行測量，但是對于某些特殊樣品，難熔、難溶及難粉碎的試樣（如塑料聚合物、橡膠等），透射光譜存在制樣困難的問題。衰減全反射（Attenuated Total Refraction，ATR）紅外附件可以完美的解決這些問題。它具有制樣簡單、無破壞性、檢測靈
X射線熒光光譜儀（XRF）基本結構
現代X射線熒光光譜分析儀由以下幾部分組成；X射線發生器(X射線管、高壓電源及穩定穩流裝置)、分光檢測系統（分析晶體、準直器與檢測器)、記數記錄系統（脈沖輻射分析器、定標計、計時器、積分器、記錄器)。
X射線熒光光譜儀（XRF）基本結構
現代X射線熒光光譜分析儀由以下幾部分組成;X射線發生器(X射線管、高壓電源及穩定穩流裝置)、分光檢測系統（分析晶體、準直器與檢測器)、記數記錄系統（脈沖輻射分析器、定標計、計時器、積分器、記錄器)。