21年來首次！佳能擴產光刻機設備！
據日經新聞報道，佳能計劃投資500億日元提高光刻機產量，將其在日本的半導體制造設備產量翻一番。報道稱，佳能將在日本東部栃木縣新建一座半導體設備廠，目標將當前產能提高一倍，總投資額超過500億日元（約3.45億美元），工廠計劃在2023年動工，2025年開始運營。光刻是半導體電路形成不可或缺的核心技術，目前佳能在日本擁有2處半導體光刻設備生產基地，可用于汽車控制系統等應用的芯片制造，此次新工廠將建在現有工廠基礎上，這是佳能21年來建造的第一座光刻設備新工廠。佳能預測，2022年半導體光刻設備的銷量比上年增長29%，增至180臺，最近10年內激增至4倍。建設新工廠后，2個基地的總產能將增至約2倍。此外，佳能還在考慮在該工廠生產下一代設備，利用被稱為“納米壓印”（nano-imprint）的技術，開發以低成本制成尖端微細電路的新一代設備。目前，佳能公司與大日本印刷、鎧俠正共同開發納米壓印設備，在學術界，日本研究者也已經演示了10納米分......閱讀全文
佳能倡環保惹爭議
日本電子產品制造商佳能公司日前在亞洲推出一項新的營銷策略，即提倡有益環保的產品，并大力宣揚其優點。佳能希望在電子產品的環保風潮中能占據先機。 據環保網站ENN報道，該策略開始于日本，正擴展到菲律賓，其他亞洲國家很快也會有佳能環保產品上市。有消息稱，佳能公司在馬
照相機歷史之十二 話說佳能相機
話說佳能相機?佳能公司生產AF單反機的歷史要短于美能達和尼康，但憑借著自己的雄厚實力，無論在相機的研制及AF鏡頭的開發上，均超過了前面兩家，市場的占有率也分別高于這兩家。佳能先后生產了EOS 650、EOS 620、EOS 850、EOS 750、EOS 630(EOS 600)EOS-1、EOS
什么是光刻機
光刻機（Mask?Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大，全
光刻機的分類
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動 A 手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了； B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧； C 自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循
光刻機的種類
a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。 1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面； 2.硬接
光刻機是什么
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電
光刻機的概述
光刻機（Mask Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大
投影式光刻機簡介
投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度
光刻機的曝光度
a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；2.硬接觸 是將基片
光刻機有哪些品牌？
光刻機的品牌眾多，根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類： 高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制