21年來首次！佳能擴產光刻機設備！

據日經新聞報道，佳能計劃投資500億日元提高光刻機產量，將其在日本的半導體制造設備產量翻一番。

報道稱，佳能將在日本東部栃木縣新建一座半導體設備廠，目標將當前產能提高一倍，總投資額超過500億日元（約3.45億美元），工廠計劃在2023年動工，2025年開始運營。

光刻是半導體電路形成不可或缺的核心技術，目前佳能在日本擁有2處半導體光刻設備生產基地，可用于汽車控制系統等應用的芯片制造，此次新工廠將建在現有工廠基礎上，這是佳能21年來建造的第一座光刻設備新工廠。

佳能預測，2022年半導體光刻設備的銷量比上年增長29%，增至180臺，最近10年內激增至4倍。建設新工廠后，2個基地的總產能將增至約2倍。

此外，佳能還在考慮在該工廠生產下一代設備，利用被稱為“納米壓印”（nano-imprint）的技術，開發以低成本制成尖端微細電路的新一代設備。

目前，佳能公司與大日本印刷、鎧俠正共同開發納米壓印設備，在學術界，日本研究者也已經演示了10納米分辨率的納米壓印技術，據估計如使用納米壓印制造先進制程芯片，成本將比現有EUV光刻機降低40%，能耗減少90%，有望成為EUV光刻的替代工藝。