清華大學儀器共享平臺反應離子蝕刻機
儀器名稱：反應離子蝕刻機儀器編號：85427700產地：瑞典生產廠家：瑞典型號：PTL 520/520出廠日期：198509購置日期：198509所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn）分類標簽：微納加工 集成電路 半導體工藝 刻蝕技術指標：介電材料刻蝕：RIE模式；刻蝕精度：1微米知名用戶：王喆垚、任天令、劉澤文、吳華強、梁仁榮、潘立陽、王敬、許軍、鄧寧、錢鶴、伍曉明（微電子所） 尤政、朱榮、阮勇（精儀系）、羅毅（電子系）、姚文清（化學系）技術團隊：吳華強、伍曉明、劉朋、李希有、仲濤功能特色：本刻蝕機刻蝕方式：RIE模式。刻蝕精度：1微米。主要刻蝕介質：Si3N4、Si、POLY-Si、SiO2.刻蝕尺寸：4英寸及以下及切......閱讀全文
反應離子蝕刻機共享
儀器名稱：反應離子蝕刻機儀器編號：85427700產地：瑞典生產廠家：瑞典型號：PTL 520/520出廠日期：198509購置日期：198509所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278109
反應離子蝕刻機共享應用
儀器名稱：反應離子蝕刻機儀器編號：85427700產地：瑞典生產廠家：瑞典型號：PTL 520/520出廠日期：198509購置日期：198509所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278109
冰凍蝕刻的冰凍蝕刻原理
冰凍蝕刻（freeze-etching）亦稱冰凍斷裂（freeze-fracture）。標本置于-100?C的干冰或-196?C的液氮中，進行冰凍。然后用冷刀驟然將標本斷開，升溫后，冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構，稱為蝕刻（etching）。蝕刻后，向斷面以45度角噴涂一層蒸汽鉑，再以90度
冰凍蝕刻的冰凍蝕刻原理
冰凍蝕刻（freeze-etching）亦稱冰凍斷裂（freeze-fracture）。標本置于-100?C的干冰或-196?C的液氮中，進行冰凍。然后用冷刀驟然將標本斷開，升溫后，冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構，稱為蝕刻（etching）。蝕刻后，向斷面以45度角噴涂一層蒸汽鉑，再以90度
冰凍蝕刻的冰凍蝕刻原理
冰凍蝕刻（freeze-etching）亦稱冰凍斷裂（freeze-fracture）。標本置于-100?C的干冰或-196?C的液氮中，進行冰凍。然后用冷刀驟然將標本斷開，升溫后，冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構，稱為蝕刻（etching）。蝕刻后，向斷面以45度角噴涂一層蒸汽鉑，再以90度
清華大學儀器共享平臺反應離子蝕刻機
儀器名稱：反應離子蝕刻機儀器編號：85427700產地：瑞典生產廠家：瑞典型號：PTL 520/520出廠日期：198509購置日期：198509所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：李希有（010-6278404
等離子清洗機,材料表面清洗、活化、蝕刻、涂層
金鉑利萊作為專業生產等離子清洗機的生產廠商，在網上經常有咨詢到等離子清洗機的用途有哪些，我的行業能使用等離子清洗機嗎?他在我們行業是怎么樣工作的，小編總結我們等離子清洗機的一般用途來告訴大家，但是大家有需要等離子清洗機請聯系我們！現在我們一起來看看。 一、金屬表面去油及清潔 金屬表面
冷凍蝕刻電鏡技術
凍蝕刻(Freezeetching)技術是從50年代開始發展起來的一種將斷裂和復型相結合的制備透射電鏡樣品技術，亦稱冷凍斷裂(Freezefracture)或冷凍復型(Freezereplica)，用于細胞生物學等領域的顯微結構研究。
蝕刻液是什么
蝕刻是一種對金屬或者石質等物質進行化學腐蝕性溶解的加工工藝。蝕刻液通俗的說就是能夠進行蝕刻的藥水。比如我們使用三氯化鐵溶液對銅板進行蝕刻，這里的三氯化鐵溶液就是蝕刻液。當然，要想達到較好的蝕刻效果，蝕刻液的種類、濃度、溫度、酸度、蝕刻方式等都有相當嚴格的配制和使用規范。
什么是冷凍蝕刻？
冷凍蝕刻是指將標本置于-100?C的干冰或-196?C的液氮中進行冰凍，然后用冷刀將標本斷開，升溫后冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構。蝕刻后，向斷面以45度角噴涂一層蒸汽鉑，再以90度角噴涂一層碳，加強反差和強度。然后用次氯酸鈉溶液消化樣品，把碳和鉑的膜剝下來，此膜即為復膜（replica）。
冷凍蝕刻免疫電鏡技術
實驗原理?冷凍蝕刻法(Freeze Ftching)，也稱冷凍復型法(Freeze Replica)或冷凍切斷(Freeze Fracture)，是研究生物膜結構的重要方法之一。其主要步驟首先是將樣品在液氮中冷凍，然后放到真空噴鍍儀中切斷，切斷后的切面上有細胞器，其間還有凍成洋的水分。再加熱使冰升華
冷凍蝕刻的技術特點
冷凍蝕刻是指將標本置于-100?C的干冰或-196?C的液氮中進行冰凍，然后用冷刀將標本斷開，升溫后冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構。
凍蝕刻的技術簡介
凍蝕刻(Freezeetching)技術是從50年代開始發展起來的一種將斷裂和復型相結合的制備透射電鏡樣品技術，亦稱冷凍斷裂(Freezefracture)或冷凍復型(Freezereplica)，用于細胞生物學等領域的顯微結構研究。
冷凍蝕刻技術的介紹
冷凍蝕刻（freeze－etching）技術是在冷凍斷裂技術的基礎上發展起來的更復雜的復型技術。如果將冷凍斷裂的樣品的溫度稍微升高，讓樣品中的冰在真空中升華，而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的干冰升華之后，對浮雕表面進行鉑一碳復型，并在腐蝕性溶液中除去生物材料，復型經重蒸水多次清洗后，撈在載
什么是冷凍蝕刻技術
冷凍蝕刻（freeze－etching）技術是在冷凍斷裂技術的基礎上發展起來的更復雜的復型技術。如果將冷凍斷裂的樣品的溫度稍微升高，讓樣品中的冰在真空中升華，而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的冰升華之后，對浮雕表面進行鉑一碳復型，并在腐蝕性溶液中除去生物材料，復型經重蒸水多次清洗后，撈在載網
冷凍蝕刻免疫電鏡技術
實驗概要本文介紹了冷凍蝕刻免疫電鏡技術，包括：冷凍蝕刻表面標記免疫電鏡技術和斷裂—標記免疫電鏡技術。實驗原理冷凍蝕刻法(Freeze Ftching)，也稱冷凍復型法(Freeze Replica)或冷凍切斷(Freeze Fracture)，是研究生物膜結構的重要方法之一。其主要步驟首先是
什么是冷凍蝕刻技術
冷凍蝕刻（freeze－etching）技術是在冷凍斷裂技術的基礎上發展起來的更復雜的復型技術。如果將冷凍斷裂的樣品的溫度稍微升高，讓樣品中的冰在真空中升華，而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的冰升華之后，對浮雕表面進行鉑一碳復型，并在腐蝕性溶液中除去生物材料，復型經重蒸水多次清洗后，撈在載網
冷凍蝕刻電鏡技術優缺點
折疊優點①樣品通過冷凍，可使其微細結構接近于活體狀態;②樣品經冷凍斷裂蝕刻后，能夠觀察到不同劈裂面的微細結構，進而可研究細胞內的膜性結構及內含物結構;③冷凍蝕刻的樣品，經鉑、碳噴鍍而制備的復型膜，具有很強的立體感且能耐受電子束轟擊和長期保存。折疊缺點冷凍也可造成樣品的人為損傷;斷裂面多產生在樣品結構
冷凍蝕刻電鏡技術裝置型號
裝置型號目前，冷凍蝕刻裝置的型號很多，但主要分為兩種類型:一種是專用冷凍蝕刻裝置，如EIKO公司生產的FD2A型、FD3型，BALZERS公司生產的BAF300型;另一種是真空噴鍍儀的冷凍蝕刻附件，如日立公司生產的HFZ1型，它與FE1型加溫蝕刻裝置一起安裝在HUS5型真空噴鍍儀中使用。以
快速冷凍深度蝕刻的定義
中文名稱快速冷凍深度蝕刻英文名稱quick freeze deep etching定 義在冷凍蝕刻基礎上建立起來的一種電鏡技術。可對細胞質中的細胞骨架纖維及其結合蛋白進行觀察。應用學科細胞生物學（一級學科），細胞生物學技術（二級學科）
冷凍蝕刻的操作方法
冷凍蝕刻的操作方法按以下步驟進行。1.預處理取新鮮組織塊，大小為15～3～5mm，用25%戊二醛固定1～3小時。為防止冰晶形成，用30%甘油生理鹽水浸泡8～12小時。2.冷凍斷裂是在冷凍條件下使樣品變得又硬又脆，用刀劈裂樣品，暴露觀察面。因為是用刀劈裂的樣品，斷裂往往發生在細胞被凍結后較脆弱的部
冷凍蝕刻技術的技術優點
冷凍蝕刻(Freezeetching)技術是從50年代開始發展起來的一種將斷裂和復型相結合的制備透射電鏡樣品技術，故而亦稱冷凍斷裂(Freezefracture)或冷凍復型(Freezereplica)。它的優點在于：①樣品通過冷凍，可使其微細結構接近于活體狀態；②樣品經冷凍斷裂蝕刻后，能夠觀察到不
冰凍蝕刻有哪些類型
是在冰凍斷裂技術的基礎上發展起來的更復雜的復型技術。如果將冰凍斷裂的樣品的溫度稍微升高，讓樣品中的冰在真空中升華，而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的冰升華之后，對浮雕表面進行鉑-碳復型，并在腐蝕性溶液中除去生物材料， 復型經重蒸水多次清洗后，置于載網上作電鏡觀察。冰凍蝕刻（freeze-et
冷凍蝕刻技術的技術優點
冷凍蝕刻(Freezeetching)技術是從50年代開始發展起來的一種將斷裂和復型相結合的制備透射電鏡樣品技術，故而亦稱冷凍斷裂(Freezefracture)或冷凍復型(Freezereplica)。它的優點在于：①樣品通過冷凍，可使其微細結構接近于活體狀態；②樣品經冷凍斷裂蝕刻后，能夠觀察到不
冷凍蝕刻的概念和應用
冷凍蝕刻是指將標本置于-100?C的干冰或-196?C的液氮中進行冰凍，然后用冷刀將標本斷開，升溫后冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構。蝕刻后，向斷面以45度角噴涂一層蒸汽鉑，再以90度角噴涂一層碳，加強反差和強度。然后用次氯酸鈉溶液消化樣品，把碳和鉑的膜剝下來，此膜即為復膜（replica）。
快速冷凍深度蝕刻的概念
中文名稱快速冷凍深度蝕刻英文名稱quick freeze deep etching定 義在冷凍蝕刻基礎上建立起來的一種電鏡技術。可對細胞質中的細胞骨架纖維及其結合蛋白進行觀察。應用學科細胞生物學（一級學科），細胞生物學技術（二級學科）
冷凍蝕刻電鏡技術操作方法
操作方法冷凍蝕刻的操作方法按以下步驟進行。1.預處理取新鮮組織塊，大小為15~3~5mm，用25%戊二醛固定1~3小時。為防止冰晶形成，用30%甘油生理鹽水浸泡8~12小時。2.冷凍斷裂是在冷凍條件下使樣品變得又硬又脆，用刀劈裂樣品，暴露觀察面。因為是用刀劈裂的樣品，斷裂往往發生在細胞被凍結后較
冷凍蝕刻表面標記免疫電鏡技術
冷凍蝕刻表面標記免疫電鏡技術(1)新鮮或固定的細胞進行直接法或間接法免疫標記。(2)PBS(pH7.5)沖洗3min×2，加入1mmol/l MgCl2蒸餾水洗洗3min×3，離心沉集細胞。(3)將細胞團置于小紙板上，入液氮冷卻的Freon中，取出入冷凍蝕刻儀中進行斷裂操作，再于-100℃蝕刻1mi
激光蝕刻催生GaAS太赫茲輻射
當沒有更便宜更有效的方法來批量生產太赫茲發射器（ terahertz emitters）時，激光蝕刻 不失為一個增大砷化鎵（gallium arsenide：GaAs）輸出的好辦法。GaAs是一種常見的用于這些設備的半導體材料。 日本沖繩科學技術研究所(OIST：Okinawa Institute
冷凍斷裂蝕刻復型技術簡介
冷凍斷裂蝕刻復型技術是復型技術種類，先將生物樣品在液氮中(-196℃)進行快速冷凍，防止形成冰晶。然后將冷凍的樣品迅速轉移到冷凍裝置中，并迅速抽成真空。在真空條件下，用冰刀橫切冷凍樣品，使樣品內層被分開露出兩個表面。如用冰刀切開細胞膜時，分開的兩個面分別稱為P面(protoplasmic face)