聲光調制器的有衍射效率
調制器的另一重要參量是衍射效率。根據晶體的相關知識，要得到100%的調制所需要的強度為若要表示所需的功率，則為可見，材料的品質因數M2越大，欲獲得100%的衍射效率所需要的功率越小。而且換能器的截面應做得長（L大）而窄（H小）。然而，長度L的增大雖然對提高衍射效率有利，但會導致調制帶寬的減小（因為發散角δφ與L成反比，δφ值小意味著小的調制帶寬）。令，帶寬可寫成由此解出L，并應用晶體的相關知識可得式中，λ0為中心波長(帶寬等于vs/λs)。引入因子，M1為表征材料的調制帶寬特性的品質因數。M1值越大，材料制成的調制器所允許的調制帶寬越大。......閱讀全文
聲光調制器的有衍射效率
調制器的另一重要參量是衍射效率。根據晶體的相關知識，要得到100%的調制所需要的強度為若要表示所需的功率，則為可見，材料的品質因數M2越大，欲獲得100%的衍射效率所需要的功率越小。而且換能器的截面應做得長（L大）而窄（H小）。然而，長度L的增大雖然對提高衍射效率有利，但會導致調制帶寬的減小（因為發
聲光調制器的衍射效率計算
調制器的另一重要參量是衍射效率。根據晶體的相關知識，要得到100%的調制所需要的強度為若要表示所需的功率，則為可見，材料的品質因數M2越大，欲獲得100%的衍射效率所需要的功率越小。而且換能器的截面應做得長（L大）而窄（H小）。然而，長度L的增大雖然對提高衍射效率有利，但會導致調制帶寬的減小（因為發
聲光調制器的功能介紹
聲光調制是一種外調制技術，通常把控制激光束強度變化的器件稱作調制器。調制信號是以電信號（調幅）形式作用于換能器上，再轉化為以電信號形式變化的波場，當光波通過介質時，使光載波受到調制而成為“攜帶”信息的強度調制波。
聲光調制器的結構特點
調制器由介質、換能器、吸收（或反射）裝置及驅動電源等組成，其結構如圖1所示。介質是指相互作用的區域。當一束光通過變化的機械波場時，由于光和機械波場的相互作用，其出射光就具有隨時間而變化的各級衍射光，利用衍射光的強度隨機械波強度的變化而變化的性質，就可以制成光強度調制器。換能器（又稱發生器）可以利用某
聲光調制器的組成結構
調制器由介質、換能器、吸收（或反射）裝置及驅動電源等組成，其結構如圖1所示。介質是指相互作用的區域。當一束光通過變化的機械波場時，由于光和機械波場的相互作用，其出射光就具有隨時間而變化的各級衍射光，利用衍射光的強度隨機械波強度的變化而變化的性質，就可以制成光強度調制器。換能器（又稱發生器）可以利用某
聲光調制器的工作原理
將信息加載于光頻載波上的一種物理過程。調制信號是以電信號（調幅）形式作用于換能器上，再轉化為以電信號形式變化的機械波場，當光波通過介質時，由于作用，使光載波受到調制而成為“攜帶”信息的強度調制波。圖2無論是拉曼-納斯衍射，還是布拉格衍射，其衍射效率均與附加相位延遲因子?有關，而其中折射率差Δn正比于
聲光調制器的工作原理
將信息加載于光頻載波上的一種物理過程。調制信號是以電信號（調幅）形式作用于換能器上，再轉化為以電信號形式變化的機械波場，當光波通過介質時，由于作用，使光載波受到調制而成為“攜帶”信息的強度調制波。圖2無論是拉曼-納斯衍射，還是布拉格衍射，其衍射效率均與附加相位延遲因子?有關，而其中折射率差Δn正比于
超聲光柵與平面衍射光柵有何不同
超聲光柵：由超聲波在液體中產生的光柵作用稱作超聲光柵。平面衍射光柵：普通的光線衍射光柵光波在介質中傳播時被超聲波衍射的現象稱為超聲致光衍射（亦稱聲光效應）。超聲波作為一種縱波在液體中傳播時，其聲壓使液體分子產生周期性的變化，促使液體的折射率也相應地作周期性的變化，形成疏密波。此時，如有平行單色光垂直
超聲光柵衍射條紋級數過少的原因
超聲頻率升高相當于超聲波長變短，所產生的駐波光柵疏密帶之間距離亦變短，即光柵常數變大……之后你自己看看公式，光柵常數變大后單條紋寬度和條文之間寬度自然都會變大……頻率升高，光柵常數d變小。相關公式：d?sinθ= n?λ ，d減小，△λ沒變，△θ變大，條紋間距增加。
二氧化碲（TeO2）晶體的特征和用途
二氧化碲（TeO2）晶體是一種性能優良的聲光晶體材料，其同時具有優異的聲光性能和高自然豐度的130Te和雙β衰變性能。現在二氧化碲晶體已廣泛應用于各種聲光設備中，例如聲光偏轉器、聲光調制器、聲光可調諧諧波器。用氧化碲制作的聲光器件，在相同的通光孔徑下，分辨率可有數量級的提高，同時具有響應速度快，驅動
聲光調制實驗儀
聲光調制實驗儀作為新一代的高等院校物理實驗儀器 ，在基礎物理實驗和相關專業的實驗中，用以研究聲場和光場相互作用的物理過程；測量聲光調制偏轉的特性；也適用于研究材料的物理性能以及聲光偏轉和聲光調制在光通訊、光信息處理等現代應用中的實驗研究。 功能特點： 1.提供光功率可調的半導體激光器
聲光調制實驗儀
聲光調制實驗儀作為新一代的高等院校物理實驗儀器 ，在基礎物理實驗和相關專業的實驗中，用以研究聲場和光場相互作用的物理過程；測量聲光調制偏轉的特性；也適用于研究材料的物理性能以及聲光偏轉和聲光調制在光通訊、光信息處理等現代應用中的實驗研究。 功能特點： 1.提供光功率可調的半導體激光器
聲光調制實驗儀的參數特點是怎樣的
聲光調制實驗儀作為新一代的高等院校物理實驗儀器，在基礎物理實驗和相關的實驗中，用以研究聲場和光場相互作用的物理過程； 測量聲光調制偏轉的特性；也適用于研究材料的物理性能以及聲光偏轉和聲光調制在光通訊、光信息處理等現代應用中的實驗研究。 功能特點： 1.提供光功率可調的半
光調制的方法介紹
光調制的方法主要分為直接調制、腔內調制和腔外調制三種。直接調制法外加信號直接控制激光器的泵浦源（如控制半導體激光器的注入電流），從而使激光的某些參量得到調制。腔內調制法腔內調制是通過改變激光器的參數（如增益、諧振腔Q值或光程等）而實現的，主要用于Q開關、腔測空、鎖模等技術。腔內調制又分為被動式與主動
光調制技術的調制方法介紹
光調制的方法主要分為直接調制、腔內調制和腔外調制三種。直接調制法外加信號直接控制激光器的泵浦源（如控制半導體激光器的注入電流），從而使激光的某些參量得到調制。腔內調制法腔內調制是通過改變激光器的參數（如增益、諧振腔Q值或光程等）而實現的，主要用于Q開關、腔測空、鎖模等技術。腔內調制又分為被動式與主動
調Q技術種類
調Q技術分為：電光調Q、聲光調Q、染料調Q、色心晶體調Q、轉鏡調Q。其中以電光調Q、聲光調Q、染料調Q最為常用。電光調Q、聲光調Q總稱主動調Q，染料調Q稱為被動調Q。電光調Q利用晶體的電光效應，在晶體上加一階躍式電壓，調節腔內光子的反射損耗。第一階段是在晶體上加電壓λ/4。偏振光通過KDP晶體時分解
調Q的技術種類
調Q技術分為：電光調Q、聲光調Q、染料調Q、色心晶體調Q、轉鏡調Q。其中以電光調Q、聲光調Q、染料調Q最為常用。電光調Q、聲光調Q總稱主動調Q，染料調Q稱為被動調Q。電光調Q利用晶體的電光效應，在晶體上加一階躍式電壓，調節腔內光子的反射損耗。第一階段是在晶體上加電壓λ/4。偏振光通過KDP晶體時分解
常見的單晶衍射和粉末衍射方法有哪些
勞埃法勞埃法以光源發出連續X射線照射置于樣品臺上靜止的單晶體樣品，用平板底片記錄產生的衍射線。根據底片位置的不同，勞埃法可以分為透射勞埃法和背射勞埃法。背射勞埃法不受樣品厚度和吸收的限制，是常用的方法。勞埃法的衍射花樣由若干勞埃斑組成，每一個勞埃斑相應于晶面的1～n級反射，各勞埃斑的分布構成一條晶帶
常見的單晶衍射和粉末衍射方法有哪些
勞埃法勞埃法以光源發出連續X射線照射置于樣品臺上靜止的單晶體樣品，用平板底片記錄產生的衍射線。根據底片位置的不同，勞埃法可以分為透射勞埃法和背射勞埃法。背射勞埃法不受樣品厚度和吸收的限制，是常用的方法。勞埃法的衍射花樣由若干勞埃斑組成，每一個勞埃斑相應于晶面的1～n級反射，各勞埃斑的分布構成一條晶帶
如何正確地選擇空間光調制器？（二）
選擇相應的波段濱松每個系列（X10468/X13267/X13138）的LCOS產品都包含九個不同的型號，以-01~-09在型號的末尾表示。如X10468-07中的-07就是指該型號的產品可調制波長范圍為620nm-1100nm*虛線范圍所指含義：對于-05型號來說，波長小于400nm的紫外光會對L
激光直寫的工作原理是怎樣的？
激光直寫是制作衍射光學元件的主要技術之一，可在光刻膠的表面直接寫入多臺階、連續位相浮雕微結構，與二元光學方法相比，工藝簡單，避免了多套掩模之間的套刻對準環節，改善了DOE的加工精度，從而提高DOE的衍射效率。 激光直寫 激光直寫的原理： 激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實
濱松空間光調制器重要參數介紹
空間光調器(Spatial Light Modulation, SLM)空間光調制器(Spatial Light Modulator, SLM)是一種電光轉換器件，能夠對輸入的光進行調制、控制，從而實現圖像重構、光學信號處理等功能。不同類型的空間光調制器在這些參數方面可能會有所不同，具體選型應根據應
電子衍射與X射線衍射有什么異同
含義不同: 電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件(布拉格方程+反射定律,衍射矢量方程或厄瓦爾德圖解等)和系統消光規律。形成不同: 多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝,往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。當電子波（具有一定能量的電子）落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電
電子衍射與X射線衍射有什么異同
含義不同: 電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件(布拉格方程+反射定律,衍射矢量方程或厄瓦爾德圖解等)和系統消光規律。形成不同: 多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝,往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。當電子波（具有一定能量的電子）落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電
電子衍射與X射線衍射有什么異同
含義不同: 電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件(布拉格方程+反射定律,衍射矢量方程或厄瓦爾德圖解等)和系統消光規律。形成不同: 多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝,往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。當電子波（具有一定能量的電子）落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電
電子衍射與X射線衍射有什么異同
含義不同: 電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件(布拉格方程+反射定律,衍射矢量方程或厄瓦爾德圖解等)和系統消光規律。形成不同: 多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝,往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。當電子波（具有一定能量的電子）落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電
電子衍射與x射線衍射有何異同
多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝，往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。這種晶體取向稱為擇優取向或織構，它引起X射線衍射花樣發生變化，使得連續均勻的衍射環成不連續、強度加強的斑點或弧段，而另一些晶面的衍射線強度變小甚至消失。測定織構的方法有多種中，但X射線方法具有準確、全面等特點，所
電子衍射與X射線衍射有什么異同
含義不同: 電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件(布拉格方程+反射定律,衍射矢量方程或厄瓦爾德圖解等)和系統消光規律。形成不同: 多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝,往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。當電子波（具有一定能量的電子）落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電
電子衍射與X射線衍射有什么異同
含義不同: 電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件(布拉格方程+反射定律,衍射矢量方程或厄瓦爾德圖解等)和系統消光規律。形成不同: 多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝,往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨于一致。當電子波（具有一定能量的電子）落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電
激光直寫的工作原理是怎樣的
激光直寫是制作衍射光學元件的主要技術之一，可在光刻膠的表面直接寫入多臺階、連續位相浮雕微結構，與二元光學方法相比，工藝簡單，避免了多套掩模之間的套刻對準環節，改善了DOE的加工精度，從而提高DOE的衍射效率。 激光直寫 激光直寫的原理： 激光直寫是利用強度可變的激光束對基片