WIKI資訊
金屬多靶磁控濺射機是一種用于電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，于2014年1月1日啟用。 1）真空系統：復合分子泵+直聯旋片無油機械泵抽真空系統；真空極限：優于5.0×10E-5Pa ；抽速：從大氣開始抽氣，濺射室25分鐘可達到10E-4Pa；系統漏率≤ 5×10-7PaL/s，系統停泵關機12小時后真空度≤5Pa；2）基片臺：可鍍4基片，4樣片內膜厚200nm的不均勻度≤±5%；樣品基臺可加熱，室溫～500℃，控溫精度±1oC；3)濺射靶及電源：直徑小于/等于3英寸，標配3個材料靶加一盲靶；各靶兼容直流濺射/中頻濺射/射頻濺射；靶之間相互不干擾/污染； 電源配置：配有2臺數字式500w直流濺射電源和1臺500w全自動匹配射頻濺射電源。......閱讀全文
金屬多靶磁控濺射機是一種用于電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，于2014年1月1日啟用。 1）真空系統：復合分子泵+直聯旋片無油機械泵抽真空系統；真空極限：優于5.0×10E-5Pa ；抽速：從大氣開始抽氣，濺射室25分鐘可達到10E-4Pa；系統漏率≤ 5×10-7PaL/s，系統停泵
超高真空多靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于物理學領域的物理性能測試儀器，于2010年2月21日啟用。 技術指標 雙室磁控濺射系統，極限壓力：主濺射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三個直流電源，兩個射頻電源，靶材直徑60mm；3、6個樣品工位，尺寸直徑30mm，基片加熱最高60
鐵金屬檢測機 產品型號： 產品品牌：梅特勒-托利多 產品價格：電詢 ?? 該系列產品主要針對食品行業，對金屬膜包裝產品進行鐵雜質的檢測，如方便食品、糖果、酸奶、牛奶和休閑食品等。 ?? 獨特的產品信號取消功能，能夠記錄和屏蔽鋁膜等金屬膜包裝材料的信號，提高金屬檢測性能。 ?? 檢測頭滿
通常金屬探測機由兩部分組成，即金屬探測機與自動剔除裝置，其中檢測器為核心部分。檢測器內部分布著三組線圈，即中央發射線圈和兩個對等的接收線圈，通過中間的發射線圈所連接的振蕩器來產生高頻可變磁場，空閑狀態時兩側接收線圈的感應電壓在磁場未受干擾前相互抵消而達到平衡狀態。
薄膜材料因其在多個方面的性能，使得應用十分廣泛，薄膜的制備有多種方法，磁控濺射法是當今制備薄膜比較常用的一種方法。而用磁控濺射法制備出高質量薄膜的關鍵是薄膜生長過程中的工藝參數選擇與穩定性控制。為此在薄膜生長中的工藝參數對薄膜的各種性能影響方面做了 探討與研究，如采用真空濺射鍍膜技術在鎳鋅鐵氧基片
不僅可以得到很高的濺射速率，而且在濺射金屬時還可以避免二次電子轟擊而使基板保持接近冷態，這對單晶和塑料基板具有重要的意義。磁控濺射可以用DC和RF放電工作，故能制備金屬膜和介質膜。但是它的缺點是：不能實現強磁性材料的低溫高速濺射，因為幾乎所有的磁通都通過磁性靶子，所以在靶面附近不能外加強磁場；
薄膜材料因其在多個方面的優異性能，使得應用十分廣泛，薄膜的制備有多種方法，磁控濺射法是當今制備薄膜比較常用的一種方法。而用磁控濺射法制備出高質量薄膜的關鍵是薄膜生長過程中的工藝參數選擇與穩定性控制。為此在薄膜生長中的工藝參數對薄膜的各種性能影響方面做了大量探討與研究，如采用真空濺射鍍膜技術在鎳鋅鐵
一種新型納米顆粒能選擇性地向腫瘤組織投遞遺傳物質，對周圍健康組織沒有副作用。 image.png 特拉維夫大學的一項研究指出，一個已知的癌基因（oncogene，促進癌癥發展）和一個抑癌microRNA的表達之間存在負相關性，共同影響胰腺癌患者的生存率。因此科學家們發明了一
概述 梅特勒-托利多R系列矩形金屬檢測機可集成到傳輸帶等產品輸送系統中。 非常適合檢測工藝中或生產線最后的散料、散裝或包裝產品。 廣泛的產品范圍可確保提供滿足各種應用需求的解決方案。 用于實現最大合規性的高級金屬檢測 梅特勒-托利多金屬檢測機使用復雜的技術來提供高級金屬檢測解決方案，
概述 梅特勒-托利多T和ST系列立式金屬檢測機可集成到立式制袋、填充和封口（VFFS）工藝中以檢測自由落體產品。 這些立式應用金屬檢測解決方案尤其適合使用金屬薄膜包裝材料的應用。 優化的系統性能 為了最大程度減少由于金屬污染物導致的產品召回風險，最新的梅特勒-托利多T和ST系列立式金