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本文利用俄歇電子能譜(AES)研究了清潔純鐵、離子注入碳純鐵、清潔鈾以及離子注入碳鈾表面與氧氣吸附及初始氧化的過程。 首先,實驗分析了不同氧暴露劑量對純鐵、離子注入碳純鐵、鈾、離子注入碳鈾表面吸附及初始氧化過程的影響,研究結果表明:室溫下,純鐵表面吸附氧氣及初始氧化的速率大于離子注入碳純鐵表面吸附氧氣及初始氧化的速率;清潔鈾表面吸附氧氣的曲線呈直線上升趨勢,離子注入碳鈾表面吸附氧氣的曲線存在轉折點,轉折點后樣品表面吸附氧氣的速率減小。離子注入碳后樣品表面吸附及氧化的速率降低使樣品表面與氧氣作用的幾率減小,說明離子注入碳使樣品表面的抗氧化能力增強。同時,表面分析結果表明離子注入碳后純鐵及鈾表面有相應碳化物的生成,在離子注入碳后純鐵及鈾表面的吸附和初始氧化過程中,碳化物的存在不利于氧在界面的擴散,從而增強了純鐵及金屬鈾表面的抗氧化性。 其次,實驗分析了各樣品吸附及初始氧化后的加熱過程,可以得到如下結論:當溫度在室溫(298K)至47......閱讀全文
本文利用俄歇電子能譜(AES)研究了清潔純鐵、離子注入碳純鐵、清潔鈾以及離子注入碳鈾表面與氧氣吸附及初始氧化的過程。 首先,實驗分析了不同氧暴露劑量對純鐵、離子注入碳純鐵、鈾、離子注入碳鈾表面吸附及初始氧化過程的影響,研究結果表明:室溫下,純鐵表面吸附氧氣及初始氧化的速率大于離子注入碳純鐵表面吸附
用俄歇電子能譜(AES)分別對高真空室中鈾樣品及多能量疊加離子注入碳鈾樣品與氧氣吸附及初始氧化過程進行了研究。結果表明,在高真空室中,清潔鈾表面很容易吸附氧化,發生氧化反應,當O2暴露劑量為40 L時,清潔鈾表面就會形成一層UO2;離子注入碳后鈾表面的抗氧化能力增強。?
用俄歇電子能譜(AES)研究高真空室中純鐵和多能量疊加注碳純鐵表面與氧氣吸附及初始氧化過程。純鐵表面的吸附及初始氧化的速率大于注碳純鐵表面的吸附及初始氧化的速率,離子注入碳使純鐵表面的抗氧化性能增強。?
用俄歇電子能譜(AES)研究高真空室中純鐵和多能量疊加注碳純鐵表面與氧氣吸附及初始氧化過程。純鐵表面的吸附及初始氧化的速率大于注碳純鐵表面的吸附及初始氧化的速率,離子注入碳使純鐵表面的抗氧化性能增強。
高溫高壓下烴類氣體在儲層孔隙介質表面的吸附實驗研究是當前石油化工中具有相當難度和較高理論價值與應用價值的前沿性研究課題，是儲層孔隙介質中天然氣和凝析油氣體系相平衡規律以及滲流規律研究的重要基礎之一。 ? ? 近年來，天然氣藏儲層中烴類氣體的吸附實驗研究逐漸引起了人們的重視，一些研究者利用類似于
鉛鋅硫硫化礦的分離一直是選礦界研究的熱點,其難點在于這些礦物性質相似,可浮性相近,礦物彼此間相互活化和相互影響的現象比較嚴重,硫化礦電位調控浮選技術的出現較成功地解決了這個難題。本論文以廣西大廠礦區的錫石型鉛銻鋅鐵多金屬硫化礦為研究對象,全面詳細地考察了磁黃鐵礦、脆硫銻鉛礦、鐵閃鋅礦的無捕收劑浮選
本論文主要利用表面分析技術俄歇電子能譜（AES）較系統的研究了鋁薄膜在鈾基體上的生長行為特征以及膜基界面反應,并采用密度泛函方法,模擬計算了鋁原子在金屬鈾和UO2（001）面上的吸附能,對實驗結果從理論上進行了合理的解釋和推論。主要研究結果有: 1) 室溫下,在金屬鈾表面逐步沉積鋁原子的過程中,沉
主要利用俄歇電子能譜(AES)原位分析了室溫下鈾與UO2表面鋁薄膜的生長行為。在俄歇電子能譜儀超高真空室中,利用Ar+槍濺射鋁靶,使其沉積到鈾基體上,然后利用電子槍適時采集表面俄歇電子能譜, 原位分析鋁薄膜的生長過程。在UO2表面沉積鋁膜時,先往真空室中充入氧氣,將清潔鈾表面氧化成UO2, 然后再
BETA201B全自動靜態容量法比表面及孔徑分析測試儀 儀器型號：BETA201B? 產品名稱：全自動靜態容量法比表面及孔徑分析測試儀 產品型號;?BETA201B 產品類別：物理分析儀 性能參數： 1.?測量范圍:比表面積0.0001m2/g(氪氣吸附)至無上限。孔徑
金屬鈾在核燃料領域有著非常重要的應用,然而由于鈾擁有特殊的外層電子,因此性質非常活潑,極易遭受腐蝕,鈾的使用過程中必須考慮腐蝕防護。通過物理氣相沉積的方法在鈾表面制備防腐蝕薄膜是一種有效地防腐蝕手段,但是實際工藝中,鈾易氧化的特性使得膜基界面形成氧化層,影響長期應用中的膜基結合力。本文采用離子氮化