測定限為定量范圍的兩端，分為測定上限與測定下限。
測定下限
在測定誤差能滿足預定要求的前提下，用特定方法能準確地定量測定待測物質的最小濃度或量，稱為該方法的測定下限。
測定下限反映出分析方法能準確地定量測定低濃度水平待測物質的極限可能性。在沒有（或消除了）系統誤差的前提下，他受精密度要求的限制（精密度通常以相對標準偏差表示）。分析方法的精密度要求越高，測定下限高于檢出限越多。
美國EPASW-846中規定4MDL為定量下限（RQL），即4倍檢出限濃度作為測定下限，其測定值的相對標準偏差約為10%。日本JIS規定定量下限為10倍的MDL。
2.測定上限
在限定誤差能滿足預定要求的前提下，用特定方法能夠準確地定量測定待測物質的最大濃度或量，稱為該方法的測定上限。
對沒有（或消除了）系統誤差的特定分析方法的精密度要求不同，測定上限也將不同。
測定限對于定量分析，進一步計算才能得到與分析物有關的值（例如，各個結果的平均值）。因此，條件更加苛刻，所以測定限總是高于檢出限。
3.檢測限有三種常用的表示方式
（1）儀器檢測下限
可檢測儀器的最小訊號，通常用信噪比來表示,當信號與噪聲之比大于等于3時，相當于信號強度的試樣濃度，定義為儀器檢測下限。 （2）方法檢測下限
即某方法可檢測的最低濃度。通常用低濃度曲線外推法可求的方法檢測下限。
（3）樣品檢測下限
即相對于空白可檢測的樣品最小含量。樣品檢測下限定義為：其信號等于測量空白溶液的信號的標準偏差的3倍時的濃度。
檢測下限是選擇分析方法的重要因素。樣品檢測下限不僅與方法檢測下限有關，而且與空白樣品中空白含量以及空白波動情況有關。只有當空白含量為零時，樣品檢測下限等于方法檢測下限。然而，空白含量往往不等于零，空白大小受環境對樣品的污染，試劑純度、水質純度、容器的質地及操作等因素的影響。因此，由外推法可求得方法檢測下限可能很低，但由于空白含量的存在，以及空白含量的波動，樣品檢測下限可能要比方法檢測下限大得多。從實用中考慮，樣品檢測下限較為 有用和切合實際。