光刻機移動精度怎么控制

光刻機移動精度要在雕刻的過程中，晶圓需要被快速移動,每次移動10厘米來控制。

這種誤差級別相當于眨眼之間端著一盤菜從北京天安門沖到上海外灘，恰好踩到預定的腳印上，菜還保持端平不能灑。

這種方法也叫視頻圖像處理對準技術，是指在光刻套刻的過程中，掩模圖樣與硅片基板之間基本上只存在相對旋轉和平移，充分利用這一有利條件，結合機器視覺映射技術，利用相機采集掩模圖樣與硅片基板的對位標記信號。

此種方法看上去雖然與雙目顯微鏡對準有些類似，但是實質其實有所不同，場像處理對準技術是通過CCDS攝像對兩個對位標記圖像進行采集，濾波，特征提取等處理，最后通過圖像處理單元，進行精確定位和匹配參數計算。

光刻對準技術由最初的明場和暗場對準發展到后來的干涉全息或外差干涉全息對準，混合匹配，由粗略到精細對準技術等，對準精度也由原來的微米級提高到納米級，極大促進了集成電路制造業的發展。

目前的高精度光刻設備主要采用的對準方式，可以分為光柵衍射空間濾波和場像處理對準技術。