真空系統：真空系統由機械泵、分子泵和各種閥門組成。低真空下，由熱偶型規管來測定真空度高真空下由電離型規管來測量。系統的最高真空度可以達到數量級。
輸氣系統：濺射中需要通入高純氫氣作為濺射氣體。有時需要通入、等進行反應濺射。系統現有兩路質量流量計，所用的氣體可以選擇合適的流量進入真空室。
加熱系統：在樣品托上配有加熱電阻絲，襯底溫度在室溫范圍內可調。襯底的溫度可通過熱電偶測量及其相連電路進行控制。
濺射系統：磁控濺射儀的真空室中有三個磁控陰極靶，被水冷套冷卻。真空室上部放置有直徑為的圓形樣品托。陰極靶與樣品托之間的距離在內連續可調。