| 儀器名稱： | 磁控濺射鍍膜機 |
| 儀器編號： | 13001328 |
| 產地： | 中國 |
| 生產廠家： | 創世威納科技公司 |
| 型號： | MSP-3200T |
| 出廠日期： | 201301 |
| 購置日期： | 201301 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝 |
| 放置地點： | 一樓平臺 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 魏治乾（010-62781090,19801221361,zhiqianwei@tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 微納加工 集成電路 半導體工藝 濺射鍍膜 |
| 技術指標： | 目前可濺射的材料如下： A腔室：SiO2、ITO、ZnO、TiO。B腔室： Al、Cu、Ti、Mo、TiW。 |
| 知名用戶： | 王喆垚(微電子所)、陳兢(北京大學)、何立平(中科院物理所)、嚴清峰(化學系)、許軍(微電子所)、尤政(精儀系) 朱榮(精儀系)、張志勇(北京大學)、金傳洪(浙江大學) |
| 技術團隊： | 工藝工程師：韓冰 設備工程師：仲濤 工藝主管：伍曉明 設備主管：劉朋 實驗室主任：吳華強 |
| 功能特色： | 主要用于濺射各類金屬和氧化物薄膜； 本設備有兩個相互獨立的腔室，可分別用于濺射金屬和非金屬類薄膜，每個腔室可以放置三塊不同的靶材； 樣品尺寸：4寸及以下整片或碎片 目前可濺射的材料如下： Al、Cu、Ti、Mo、TiW、SiO2、ITO、ZnO、TiO。 |
樣品要求：
單片式，樣品大小直徑不超過4英寸
預約說明：
實驗室的設備采用網上預約的方式、以先約先用為基本原則
取消預約需提前2個小時通過網上取消預約
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 雙腔濺射 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 400.0 | 貴重金屬加收材料費100元/10nm |
| 雙腔送樣濺射 | 元/小時 | 測試費 | 400.0 | 貴重金屬加收材料費100元/10nm |