極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。
2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，預計將于2019年初交貨。
功能
光刻機（又稱曝光機）是生產大規模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。光刻機的作用是掃描曝光芯片晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機，能生產出納米尺寸更小，功能更強大的芯片。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。