1. 無機質譜的樣品處理一般經過消解，有機物殘留很少，經過ICP會完全分解。
2. 無機質譜進入儀器內的離子非常少，而且很快被真空系統抽到外部。當然如果很長時間做高基體的樣品儀器內部還是會被污染的，這時就需要清洗四極桿、離子透鏡了。
3. 所有的質譜耐受鹽分的能力都是有限的，有機質譜和無機質譜的離子源溫度不同，有機質譜離子源溫度較低，無機鹽無法分解，因此沉積現象會非常嚴重。無機質譜高溫源可以使大部分無機化合物解離，但是依然會有部分氧化物沉積于錐口附近，因此接口需要經常清洗。
