光學鍍膜由薄膜層組合制作而成，它產生干擾效應來提高光學系統內的透射率或反射性能。光學鍍膜的性能取決于層數、個別層的厚度和不同的層接口折射率。用于精密光學的zui常見鍍膜類型：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、 分光鏡膜和過濾光片膜。增透膜包括在高折射率的光學中并用于zui大化光通量和降低鬼影。高反射膜的設計可在單個波長或范圍廣泛的整個波長以zui大程度反射。分 光鏡膜用于將入射光分為已知的透射光和反射光輸出。濾光片應用于大量的工業應用中，并以特定波長用于透射、反射、吸收或衰減光。愛特蒙特光學還可以提供各 種定制鍍膜滿足任何應用程序需要。
圖1： 三層寬帶增透膜設計樣品
光學鍍膜經過精心設計用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或隨機偏振光等。如果鍍膜設計的入射光角為0°，但使用時的入射光 角為45°，則鍍膜將不會以規定的透射率/反射規格執行。同樣地，鍍膜一般設計用于隨機偏振光，因此在設計用于隨機偏振光的鍍膜上使用S偏振光或P偏振光 將會再次產生無效的規格。
光學鍍膜是由沉積電介質和金屬材料制作而成，例如薄層中的Ta2O5和/或Al2O3，在應用中使用的光波長通常是四分之一波長光學厚度(QWOT)或半波光學厚度(HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率層交替而成，從而誘發需要的干擾效應。請參閱圖1有關寬帶增透膜設計的樣品說明。
鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創建較大的總振幅。當光束 為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。
下列方程式1 - 4所示說明多層薄膜結構總反射率的關系。
(1)
(2)
(3)
(4)
q
層數
δ
相位項
η
層的光學導納
Np
復雜的折射率
tp
層的物理厚度
λ
波長
θp
入射角
Y
堆疊的光學導納
R
堆疊的反射率
光的波長和入射角通常是指定的，折射率和層厚度則可以有所不同以優化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位 值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統時，在鍍膜任一側的兩個接口指數更改處將出現反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在* 個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得zui佳實現。請 參閱說明此概念的圖2。
圖2： 180° 兩個反射光束之間180°相位移
折射率不僅影響光路長度（以及相位），也影響每個界面的反射特性。反射率通過菲涅爾公式（方程式5）定義，其反射率與界面兩邊材料的折射率之差息息相關。
(5)
必須考慮到的zui后一個參數是膜層的入射角。如果入射角改變，每一層的內角及光學路徑長度都會受到影響，并會影響反射光束內的相位變化量。使用非一般 入射時，S偏振光和P偏振光將從每個界面互相反射，這將導致兩個偏振光具有不同的光學性能。偏振分光計就是基于這一原理設計的。