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  • 發布時間:2020-11-02 18:47 原文鏈接: 光化學反應儀簡介

    光化學反應儀CY品牌系列主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

    目前,各種干擾在各類工業現場中均存在,所以儀表及控制系統的可靠性直接影響到現代化工業生產裝置安全、穩定運行,系統的抗干擾能力是關系到整個系統可靠運行的關鍵。隨著DCS、現場總線技術的應用,被控對象和被測信號往往分布在各個不同的地方,并且他們與控制站之間也有相當長的距離,因此,信號線和控制線均可能是長線。其次,現場往往有許多強電設備,它們的啟動和工作將對測控系統產生強烈的影響。同時來自空間的輻射干擾、系統外引線干擾等問題尤為突出。因此,除有用信號外,由于各種原因必然會有一些與被測信號無關的電流或電壓存在,這種無關的電流或電壓通稱“干擾(噪聲)”。在測量過程中,這些干擾若不能很好地處理,那它將歪曲測量結果,嚴重時甚至使儀表或計算機不能工作。大量實踐說明,抗干擾性能是各種電子測量裝置的一個很重要的問題,尤其是DCS、現場總線技術的廣泛應用和迅速發展,有效地排除和抑制各種干擾,已成為必需探討和解決的迫切問題,因為干擾不僅能造成邏輯混亂,使系統測量和控制失靈,以致降低產品的質量,甚至使生產設備損壞,造成事故。因此,抗干擾技術在儀表測控系統的設計、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。

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